8月13日,国内半导体设备龙头北京屹唐半导体科技股份有限公司发布公告称,公司认为应用材料公司非法获取并使用了公司的等离子体源及晶圆表面处理相关的核心技术秘密,在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密,并将该专利申请权据为己有,违反了《中华人民共和国反不正当竞争法》的规定,构成侵犯商业秘密的违法行为。因此,屹唐股份向北京知识产权法院提起诉讼,要求赔偿人民币9999万元。
截至公告发布时,该案件已立案但尚未开庭审理。公司表示,本次诉讼不会对公司经营产生重大不利影响,也不会影响正常生产经营,最终实际影响取决于法院生效判决结果。
屹唐股份利用高浓度、稳定均匀的等离子体进行晶圆表面处理是其关键技术之一,广泛应用于干法去胶、干法蚀刻、表面处理及改性等半导体加工设备中。公司在该领域具备领先的原创性技术能力,并拥有相关技术秘密。
应用材料公司招聘了曾在原告全资子公司Mattson Technology, Inc.工作的两名员工。这两名员工了解关于等离子体的产生和处理方法的核心技术,熟悉和掌握相关设备结构以及技术工艺。在MTI公司任职期间,他们签署了保密协议,对包括涉案技术秘密在内的技术信息承担严格的保密义务。证据显示,应用材料公司招聘这两名员工后,向中国国家知识产权局提交了一份发明专利申请,其中主要发明人即为这两名员工,该专利申请披露了屹唐股份与MTI公司共同所有的涉案技术秘密。
屹唐股份指出,被告非法获取和使用原告的技术秘密,并在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密,将该专利申请权据为己有,违反了《中华人民共和国反不正当竞争法》的规定,构成侵犯商业秘密的行为,对原告的知识产权和经济利益造成严重损害。此外,被告还涉嫌将使用涉案技术秘密的产品向中国境内的客户进行推广销售,进一步侵害了原告的商业秘密权益。
8月13日,中国芯片设备企业北京屹唐半导体科技股份有限公司发布公告称,已起诉美国半导体设备巨头应用材料公司涉嫌侵犯商业机密,并索赔9999万元
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