ASMLCEO谈中国和西方芯片制造差异!ASML CEO克里斯托夫·富凯对中美半导体行业未来发展进行了展望。他表示,由于美国禁止向中国出口EUV光刻设备,中国芯片技术可能落后西方10到15年。他认为,这不仅因为缺少尖端光刻机,还因为经营一家成功的芯片工厂需要多年的研究和投资。
富凯指出,不仅仅是美国,许多人低估了成功运营芯片工厂所需的条件。除了资金,还需要长期的研发和不断的学习。这是他自2024年4月担任ASML总裁兼CEO以来首次谈及中国与海外半导体产业的差距。他还提到,世界仍需中国生产的“传统芯片”,这些芯片有助于填补欧洲的供需缺口。
ASML在全球芯片供应链中占据重要地位,几乎90%的芯片由其光刻系统生产。DUV光刻机用于制造7nm及以上制程的芯片,而EUV光刻机则主要用于7nm及以下先进制程。荷兰ASML是唯一的EUV光刻机供应商。自1988年交付首台步进式光刻机以来,ASML已在中国市场深耕36年。
2024年1月2日,ASML宣布荷兰政府部分撤销了此前颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻机在2023年发货的出口许可证,这将影响ASML在中国的个别客户。不过,公司预计此次出口许可证撤销及最新的美国出口管制限制不会对其2023年的财务情况产生重大影响。ASML强调将继续遵守所有适用的法律和法规。
根据ASML发布的2024财年第三季度财报,净销售额为75亿欧元,高于预期目标,主要得益于DUV光刻系统销售和装机售后服务的增加。毛利率为50.8%,净利润达21亿欧元。中国仍然是ASML的最大市场,占该季度销售额的47%,达27.9亿欧元。
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