5月27日,半导体设备龙头中微公司在上海临港召开了2024年度及2025年第一季度业绩说明会,并在会后举行了媒体见面会。中微公司2024年LPCVD设备实现首台销售,在研项目还包括PECVD和ALD设备研发。长期以来,中微公司的主营业务以等离子体刻蚀机为代表,薄膜设备则主要集中在泛半导体的MOCVD设备上。
关于中微公司薄膜沉积设备业务的成长性,董事长尹志尧表示,目前薄膜设备相关的收入体量还不大,但公司已经在全面布局并加速开发更多产品,预计三到五年内薄膜设备收入将快速增长。
半导体前道设备中,刻蚀和薄膜设备市场仅次于光刻设备。中微公司已是国内刻蚀设备龙头,同时也在积极拓展薄膜设备业务。尹志尧在业绩说明会上介绍了薄膜沉积设备,表示公司正在不断开发多种薄膜沉积设备,扩大产品覆盖度。根据2024年年报,中微公司LPCVD实现首台销售,全年设备销售额约1.56亿元。尹志尧强调,中微公司开发的LPCVD设备具有自主知识产权,不会抄袭外国设备。
薄膜沉积设备分为LPCVD、PECVD、ALD、PVD、EPI、炉管CVD和镀铜等多种类型。2022年,PECVD市场规模占总薄膜市场规模比例为32%,PVD、ALD、LPCVD、EPI、炉管CVD和镀铜占比分别为22%、14%、8%、8%、8%和5%。尹志尧介绍,中微公司从MOCVD切入,近几年集中力量开发了LPCVD,然后做EPI,慢慢进入ALD。现在已经开始做大规模集成的设备,包括PVD、ALD和LPCVD,也在开发新一代等离子体源的PECVD设备。
据2024年年报,中微公司近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备已有多款新型设备顺利进入市场并获得重要客户的重复性订单。其中,LPCVD薄膜设备累计出货量已突破150个反应台,其他多个关键薄膜沉积设备研发项目的研发进程均比较顺利,有望尽快进入客户验证阶段。公司EPI设备已进入客户端量产验证阶段。
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