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两名中国籍高校研究人员在美被捕 涉嫌妨碍FBI调查

两名中国籍高校研究人员在美被捕 涉嫌妨碍FBI调查
2020-08-30 09:46:55 环球网

原标题:疯狂抹黑!两名中国籍高校研究人员在美被捕,美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”

两名中国籍高校研究人员在美被捕

两名中国籍高校研究人员在美被捕

【环球网报道 记者 侯佳欣】美国司法部又瞄准两名中国籍研究人员。据美国哥伦比亚广播公司(CBS)旗下媒体报道,美国司法部28日发布声明称,一名中国籍加州大学洛杉矶分校研究员关磊(Guan Lei,音译)因涉嫌破坏证据妨碍联邦调查局(FBI)的调查而被逮捕并起诉。

此外,弗吉尼亚州另一名中国籍研究员胡海周(Haizhou Hu,音译)也于28日当天遭逮捕。

报道称,根据公开的关磊起诉书,美司法部宣称,他于7月25日被人看见将一个损坏的电脑硬盘丢弃在公寓外的垃圾桶。

在关磊被禁止搭机返回中国及拒绝FBI检查其电脑的要求后,FBI找回了损坏的硬盘,发现该设备已无法修好。

起诉书还声称,关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到国防科技大学(NUDT)并不实地否认他和中国军方有关。

CBS Los Angeles:加州大学洛杉矶分校因涉嫌破坏证据被起诉

美司法部声明称,关磊8月28日首度出庭,预计下个月17日传讯。

另据CBS19频道报道,根据美国弗吉尼亚州检察官办公室发布的消息,现年34岁的胡海周于28日被捕,被控未经授权或越权从受保护的计算机上获取信息,以及窃取商业机密。

美媒称,他25日曾试图从芝加哥某机场前往中国,但在例行检查中被发现携带了未经授权的研究代码。

CBS19:弗吉尼亚大学研究员因联邦指控被捕

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