在全球经济一体化的大背景之下,美国在高科技领域对中国企业的打压做法,不仅是一种极度不自信的表现,而且也不符合全球科技合作的趋势。
而且只要回顾历史就会发现,
美国对华技术的封锁,不仅遏制不了中国高科技的发展,还会成为推动中国科技跃升的重要动力。
2019年4月,武汉光电国家研究中心甘棕松团队,采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段。该样机实现了材料,软件和零部件等三个方面的国产化,打破了三维微纳光制造的国外技术垄断。
美国阻挠荷兰向中国出口光刻机,只会变成中国人的自我鞭策:不能让光刻机成为中国科技界心中永远的痛。
(海外网评论员 陈洋)